日本電子工業振興協会(日本電子工業振興協会規格)
発行元の規格情報: http://www.jeita.or.jp(一般社団法人 電子情報技術産業協会)
所蔵規格一覧
規格番号 | タイトル | 請求記号 | バーコード番号 | 備考 |
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JEIDA-28:1978 | 工業用計算機標準立会検査要領 | 549.8_180 | ||
JEIDA-30:1979 | CRTディスプレイ付オペレータズコンソール設計基準書 | 549.8_180 | ||
JEIDA-31:1980 | 工業用計算機システム購入仕様書記述基準 | 549.8_180 | ||
JEIDA-33:1981 | 工業用計算機ソフトウェア標準立会検査要領 | 549.8_180 | ||
JEIDA-34:1982 | 工業用計算機システム・ドキュメント記述基準 | 549.8_180 | ||
JEIDA-36:1984 | 工業用計算機システム・CRTディスプレイ機能仕様の記述基準 | 549.8_180 | ||
JEIDA-42:1985 | 電子計算機プログラム言語 日本語FORTRAN(S.60年5月) | 549.8_180 | ||
JEIDA-43:1999 | シリコンウェーハ平たん度に関する用語 | 549.8_180 | ||
JEIDA-44:1988 | 光学式文字認識のための手書き文字(漢字) | 549.8_180 | ||
JEIDA-48:1995 | 電子計算機機器のラインフィルタ設置に関する基準 | 549.8_180 | ||
JEIDA-54:1997 | 同期スプリット転送形システムバス (STbus)-論理仕様- | 549.8_180 | ||
JEIDA-59:1999 | デジタルモニタインタフェース標準 Version 1.0 | 549.8_180 | ||
JEIDA-60:2000 | ファクシミリサービス高度化のためのカバーシートフォーマットの規格 | 549.8_180 | ||
JEIDA-61:2000 | 赤外吸収によるシリコン中の格子間酸素原子濃度の標準測定法(00-基-15と同一) | 549.8_180 | ||
JEIDA-62:2000 | 日本語テキスト音声合成用記号の規格 | 549.8_180 | ||
JEIDA-18:2000 | シリコン単結晶の結晶方位の測定方法 | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-22:2000 | 高純度多結晶シリコン標準品規格 | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-25:1974 | 印刷配線板用コネクタ硫化試験方法 | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-27:1997 | シリコン鏡面のウェーハの寸法規格に関する標準仕様 | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-37:1998 | 情報処理機器の安全規格(第4版) | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-46:1999 | プリンタ用標準テストパターン(第4版) | 549.8_180 | CD-ROMあり |
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JEIDA-50:1998 | SOIウェーハ標準仕様 | 549.8_180_50_98 | 80803752 | 廃止 |
JEIDA-52:1998 | 情報処理装置およびシステムのイミュニティ試験 | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-53:1997 | シリコンウェーハの反射マイクロ波光導電減衰法による再結合ライフタイム測定方法 | 549.8_180_53_97 | 80803745 | 廃止 |
JEIDA-56:1998 | 赤外吸収によるシリコン結晶中の置換型炭素原子濃度の標準測定法 | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-57:1998 | 情報配線システムの試験方法 | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-57-Amd.1:2000 | 情報配線システムの試験方法(追補1) | 549.8_180 | 廃止 | |
JEIDA-63:2000 | 産業用情報処理・制御機器設置環境基準(増補改訂版JEIDA-29) | 549.8_180 | 廃止 |